Quantus® HP100

INFICON Quantus HP100气体分析仪基于自等离子体光发射光谱技术（SPOES），旨在提供半导体制造过程中的实时泄漏检测、端点检测和过程监控。Quantus HP100具有出色的灵敏度，外形紧凑，提供宽广的操作压力范围，无需昂贵的泵，因此非常适合大多数半导体工具的过程监控和保护。

• 氩气的操作范围为1 Torr - 450 Torr，氮气的操作范围为1 Torr - 120 Torr（其他气体种类则有所不同）

• 低检测限<1 ppm

• 使用标准KF25连接，安装方便

• 快速采样（大20赫兹）

• 占地面积小（高x宽x长）：6.4 x 6.0 x 8.3 in. [162 x 153 x 210 mm］

• 低维护，不需要泵或消耗品

• 方便的现场可更换的等离子池

• 为您的特殊工艺需求提供全球专家支持