Quantus® LP100+

随着技术进步将工艺推向极限，半导体制造过程监控变得越来越重要。即使是微量污染也会对结果产生重大影响，因此在关键制程环境中进行实时泄漏和端点检测至关重要。INFICON Quantus® LP100+ 气体分析仪可即时识别微小变化并做出反应，从而大限度地减少晶片废料并提高产量。

Quantus LP100+ 以自等离子体光学发射光谱 (SPOES) 技术为基础，检测限低至 ppm 以下，安装位置灵活，可安装在腔室或泵管线上。

Quantus LP100+ 采用独特的传感器设计，与传统的 OES 产品相比具有无可比拟的优势。该传感器可在等离子池中产生局部等离子体，从而将基于 OES 的气体分析仪的功能从等离子室安装扩展到非等离子室和其他工具位置，如前线或排气管路。Quantus LP100+ 的工作范围为 10 mTorr 至 1 Torr，无需昂贵的泵系统，可与许多工艺兼容，同时只需少的维护，拥有成本低。

Quantus LP100+ 使用标准 KF25 端口轻松连接到系统。它占地面积小，不会影响工艺工具内部和周围的日常操作。

• 工作范围从 10 mTorr 到 1 Torr  

• 出色的检测限低至 ppm 级 

• 使用标准 KF25 连接，安装简单 

• 10 Hz 快速采样率 

• 维护少，长期可靠 

• 拥有成本低，无需泵或耗材 

• 方便现场更换等离子池 

• 占地面积小：（高 x 宽 x 长）87 x 150 x 241 毫米（3.4 x 5.9 x 9.5 英寸）

• 由经过现场培训、经验丰富的 INFICON 工程师提供支持